Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target

The effect of the gas mixture composition on the structure, chemical bond character and hardness of Si–B–C–N films was systematically studied. A series of Si–B–C–N films was deposited by reactive dc magnetron sputtering of the target composed of Si disc with B₄C chips placed in the sputtering zone o...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2019
Автори: Onoprienko, A.A., Ivashchenko, V.I., Kozak, A.O., Sinelnichenko, A.K., Tomila, T.V.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2019
Назва видання:Сверхтвердые материалы
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/167298
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target / A.A. Onoprienko, V.I. Ivashchenko, A.O. Kozak, A.K. Sinelnichenko, T.V. Tomila // Надтверді матеріали. — 2019. — № 2 (238). — С. 29-38. — Бібліогр.: 34 назв. — англ.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine