Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target
The effect of the gas mixture composition on the structure, chemical bond character and hardness of Si–B–C–N films was systematically studied. A series of Si–B–C–N films was deposited by reactive dc magnetron sputtering of the target composed of Si disc with B₄C chips placed in the sputtering zone o...
Збережено в:
| Дата: | 2019 |
|---|---|
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
2019
|
| Назва видання: | Сверхтвердые материалы |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/167298 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target / A.A. Onoprienko, V.I. Ivashchenko, A.O. Kozak, A.K. Sinelnichenko, T.V. Tomila // Надтверді матеріали. — 2019. — № 2 (238). — С. 29-38. — Бібліогр.: 34 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-167298 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-1672982020-03-24T01:25:35Z Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target Onoprienko, A.A. Ivashchenko, V.I. Kozak, A.O. Sinelnichenko, A.K. Tomila, T.V. Одержання, структура, властивості The effect of the gas mixture composition on the structure, chemical bond character and hardness of Si–B–C–N films was systematically studied. A series of Si–B–C–N films was deposited by reactive dc magnetron sputtering of the target composed of Si disc with B₄C chips placed in the sputtering zone of disc. Досліджено вплив складу газової суміші на структуру, хімічні зв’язки та твердість Si–B–C–N-плівок, одержаних методом реакційного на постійному струмі магнетронного розпилення мішені, складеної з кремнієвого диску та пластинок B₄C, розміщених в зоні розпилення мішені. Исследовано влияние состава газовой смеси на структуру, химические связи и твердость Si–B–C–N, полученных методом реакционного на постоянном токе магнетронного распыления мишени, состоящей из кремниевого диска, в зоне распыления которого были расположены пластинки соединения B₄C. 2019 Article Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target / A.A. Onoprienko, V.I. Ivashchenko, A.O. Kozak, A.K. Sinelnichenko, T.V. Tomila // Надтверді матеріали. — 2019. — № 2 (238). — С. 29-38. — Бібліогр.: 34 назв. — англ. 0203-3119 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/167298 539.23:620 en Сверхтвердые материалы Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
English |
| topic |
Одержання, структура, властивості Одержання, структура, властивості |
| spellingShingle |
Одержання, структура, властивості Одержання, структура, властивості Onoprienko, A.A. Ivashchenko, V.I. Kozak, A.O. Sinelnichenko, A.K. Tomila, T.V. Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target Сверхтвердые материалы |
| description |
The effect of the gas mixture composition on the structure, chemical bond character and hardness of Si–B–C–N films was systematically studied. A series of Si–B–C–N films was deposited by reactive dc magnetron sputtering of the target composed of Si disc with B₄C chips placed in the sputtering zone of disc. |
| format |
Article |
| author |
Onoprienko, A.A. Ivashchenko, V.I. Kozak, A.O. Sinelnichenko, A.K. Tomila, T.V. |
| author_facet |
Onoprienko, A.A. Ivashchenko, V.I. Kozak, A.O. Sinelnichenko, A.K. Tomila, T.V. |
| author_sort |
Onoprienko, A.A. |
| title |
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target |
| title_short |
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target |
| title_full |
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target |
| title_fullStr |
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target |
| title_full_unstemmed |
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target |
| title_sort |
deposition and characterization of thin si–b–c–n films by dc reactive magnetron sputtering of composed si/b₄c target |
| publisher |
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України |
| publishDate |
2019 |
| topic_facet |
Одержання, структура, властивості |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/167298 |
| citation_txt |
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target / A.A. Onoprienko, V.I. Ivashchenko, A.O. Kozak, A.K. Sinelnichenko, T.V. Tomila // Надтверді матеріали. — 2019. — № 2 (238). — С. 29-38. — Бібліогр.: 34 назв. — англ. |
| series |
Сверхтвердые материалы |
| work_keys_str_mv |
AT onoprienkoaa depositionandcharacterizationofthinsibcnfilmsbydcreactivemagnetronsputteringofcomposedsib4ctarget AT ivashchenkovi depositionandcharacterizationofthinsibcnfilmsbydcreactivemagnetronsputteringofcomposedsib4ctarget AT kozakao depositionandcharacterizationofthinsibcnfilmsbydcreactivemagnetronsputteringofcomposedsib4ctarget AT sinelnichenkoak depositionandcharacterizationofthinsibcnfilmsbydcreactivemagnetronsputteringofcomposedsib4ctarget AT tomilatv depositionandcharacterizationofthinsibcnfilmsbydcreactivemagnetronsputteringofcomposedsib4ctarget |
| first_indexed |
2023-10-18T22:20:29Z |
| last_indexed |
2023-10-18T22:20:29Z |
| _version_ |
1796155261642080256 |