2025-02-23T15:37:43-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-168200%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T15:37:43-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-168200%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T15:37:43-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-23T15:37:43-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response
Технологические особенности DC и RF магнетронного распыл

Технологические особенности DC и RF магнетронного распыл

Проведен анализ технологических особенностей процессов DC- и RF- магнетронных разрядов. Показано, что различия в образовании и поддержании плазменной оболочки оказывают различное воздействие на распыляемый и осаждаемый материал. Потенциалы плазмы и потоки частиц на подложку являются основными фактор...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: Буранич, В.В., Шелест, И.В., Гончаров, А.А., Юнда, А.Н., Гончарова, С.А.
Format: Article
Language:Russian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2018
Series:Журнал физики и инженерии поверхности
Online Access:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/168200
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!

Similar Items

2025-02-23T15:37:43-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&rows=40&rows=5&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-168200%22&qt=morelikethis
2025-02-23T15:37:43-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&rows=40&rows=5&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-168200%22&qt=morelikethis
2025-02-23T15:37:43-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-23T15:37:43-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response

Similar Items