Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide

The paper is devoted to investigation of spatial distributions of ion current density to a sample in technological set-up with magnetron sputtering system and ICP source. The dependence of the ion flux towards the processed surface on the parameters of the deposition process was measured. The follow...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2019
Автори: Yakovin, S., Zykov, A., Dudin, S., Dakhov, A., Yefymenko, N.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2019
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194909
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, A. Dakhov, N. Yefymenko // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 229-232. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine