Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium

In experiments, the characteristics of a non-self-sustained arc discharge in pure vapors of monocrystalline zirconium were investigated. The minimum ignition power of the discharge in zirconium vapor was determined for experimental conditions. Also the main characteristics of the generated plasma st...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2019
Автори: Borisenko, A.G., Kostin, E.G., Rokytskyi, O.A., Fedorovich, O.A.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2019
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195178
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium / A.G. Borisenko, E.G. Kostin, O.A. Rokytskyi, O.A. Fedorovich // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 165-168. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-195178
record_format dspace
spelling irk-123456789-1951782023-12-03T16:45:26Z Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium Borisenko, A.G. Kostin, E.G. Rokytskyi, O.A. Fedorovich, O.A. Applications and technologies In experiments, the characteristics of a non-self-sustained arc discharge in pure vapors of monocrystalline zirconium were investigated. The minimum ignition power of the discharge in zirconium vapor was determined for experimental conditions. Also the main characteristics of the generated plasma streams were measured. The growth rates of zirconium films have been determined for various modes of the discharge operation. It is proved that the plasma stream generated by the arc discharge in zirconium vapor has a compensated volume charge and can be used to created metal films and coatings on the substrates of different materials. The coefficients of plasma streams ionization are determined and the possibility of their controlled change is shown. This capability can be used for the targeted control of the properties of the films and coatings. Експериментально були досліджені характеристики несамостійного дугового розряду в чистих парах монокристалічного цирконію. Визначена мінімальна потужність запалювання розряду в парах цирконію. Досліджені основні характеристики генерованих плазмових потоків. Визначені швидкості росту осаджуваних плівок цирконію в різних робочих режимах розряду. Доведено, що створюваний дуговим розрядом у парах цирконію плазмовий потік має компенсований об'ємний заряд і може бути використаний для нанесення металевих плівок і покриттів з цирконію на підкладинки з різних матеріалів. Визначено коефіцієнти іонізації плазмових потоків і показана можливість їх керованої зміни. Ця можливість може бути використана для цілеспрямованого управління властивостями осаджуваних плівок і покриттів. В экспериментах были исследованы характеристики несамостоятельного дугового разряда в чистых парах монокристаллического циркония. Определена минимальная мощность зажигания разряда в парах циркония. Измерены основные характеристики генерируемых плазменных потоков. Определены скорости роста осаждаемых пленок циркония в различных рабочих режимах разряда. Доказано, что создаваемый дуговым разрядом в парах циркония плазменный поток имеет компенсированный объемный заряд и может быть использован для нанесения металлических пленок и покрытий из циркония на подложке из разных материалов. Определены коэффициенты ионизации плазменных потоков и показана возможность их управляемого изменения. Эта возможность может быть использована для целенаправленного управления свойствами осаждаемых пленок и покрытий. 2019 Article Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium / A.G. Borisenko, E.G. Kostin, O.A. Rokytskyi, O.A. Fedorovich // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 165-168. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.50.Dg, 52.80 Vp http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195178 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Applications and technologies
Applications and technologies
spellingShingle Applications and technologies
Applications and technologies
Borisenko, A.G.
Kostin, E.G.
Rokytskyi, O.A.
Fedorovich, O.A.
Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium
Вопросы атомной науки и техники
description In experiments, the characteristics of a non-self-sustained arc discharge in pure vapors of monocrystalline zirconium were investigated. The minimum ignition power of the discharge in zirconium vapor was determined for experimental conditions. Also the main characteristics of the generated plasma streams were measured. The growth rates of zirconium films have been determined for various modes of the discharge operation. It is proved that the plasma stream generated by the arc discharge in zirconium vapor has a compensated volume charge and can be used to created metal films and coatings on the substrates of different materials. The coefficients of plasma streams ionization are determined and the possibility of their controlled change is shown. This capability can be used for the targeted control of the properties of the films and coatings.
format Article
author Borisenko, A.G.
Kostin, E.G.
Rokytskyi, O.A.
Fedorovich, O.A.
author_facet Borisenko, A.G.
Kostin, E.G.
Rokytskyi, O.A.
Fedorovich, O.A.
author_sort Borisenko, A.G.
title Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium
title_short Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium
title_full Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium
title_fullStr Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium
title_full_unstemmed Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium
title_sort source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2019
topic_facet Applications and technologies
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195178
citation_txt Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium / A.G. Borisenko, E.G. Kostin, O.A. Rokytskyi, O.A. Fedorovich // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 165-168. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT borisenkoag sourceofdropsfreeplasmaflowsofmonocristalinezirconium
AT kostineg sourceofdropsfreeplasmaflowsofmonocristalinezirconium
AT rokytskyioa sourceofdropsfreeplasmaflowsofmonocristalinezirconium
AT fedorovichoa sourceofdropsfreeplasmaflowsofmonocristalinezirconium
first_indexed 2024-03-31T09:14:40Z
last_indexed 2024-03-31T09:14:40Z
_version_ 1796158024153300992