Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия
Описаны особенности технологии травления сложных наноструктур, содержащих эпитаксиальные слои нитрида галлия, нанесенные на подложки из сапфира. Изготовлены высокотемпературные датчики Холла....
Збережено в:
| Дата: | 2005 |
|---|---|
| Автори: | , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2005
|
| Назва видання: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/53683 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия / А.Г. Борисенко, Б.П. Полозов, О.А. Федорович, Н.С. Болтовец, В.Н. Иванов, Ю.Н. Свешников // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 42-46. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-53683 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-536832014-01-26T03:11:54Z Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия Борисенко, А.Г. Полозов, Б.П. Федорович, О.А. Болтовец, Н.С. Иванов, В.Н. Свешников, Ю.Н. Технологические процессы и оборудование Описаны особенности технологии травления сложных наноструктур, содержащих эпитаксиальные слои нитрида галлия, нанесенные на подложки из сапфира. Изготовлены высокотемпературные датчики Холла. 2005 Article Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия / А.Г. Борисенко, Б.П. Полозов, О.А. Федорович, Н.С. Болтовец, В.Н. Иванов, Ю.Н. Свешников // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 42-46. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/53683 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Russian |
| topic |
Технологические процессы и оборудование Технологические процессы и оборудование |
| spellingShingle |
Технологические процессы и оборудование Технологические процессы и оборудование Борисенко, А.Г. Полозов, Б.П. Федорович, О.А. Болтовец, Н.С. Иванов, В.Н. Свешников, Ю.Н. Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description |
Описаны особенности технологии травления сложных наноструктур, содержащих эпитаксиальные слои нитрида галлия, нанесенные на подложки из сапфира. Изготовлены высокотемпературные датчики Холла. |
| format |
Article |
| author |
Борисенко, А.Г. Полозов, Б.П. Федорович, О.А. Болтовец, Н.С. Иванов, В.Н. Свешников, Ю.Н. |
| author_facet |
Борисенко, А.Г. Полозов, Б.П. Федорович, О.А. Болтовец, Н.С. Иванов, В.Н. Свешников, Ю.Н. |
| author_sort |
Борисенко, А.Г. |
| title |
Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия |
| title_short |
Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия |
| title_full |
Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия |
| title_fullStr |
Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия |
| title_full_unstemmed |
Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия |
| title_sort |
плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия |
| publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| publishDate |
2005 |
| topic_facet |
Технологические процессы и оборудование |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/53683 |
| citation_txt |
Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия / А.Г. Борисенко, Б.П. Полозов, О.А. Федорович, Н.С. Болтовец, В.Н. Иванов, Ю.Н. Свешников // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 42-46. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. |
| series |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| work_keys_str_mv |
AT borisenkoag plazmohimičeskoetravlenieépitaksialʹnyhstrukturnitridagalliâ AT polozovbp plazmohimičeskoetravlenieépitaksialʹnyhstrukturnitridagalliâ AT fedorovičoa plazmohimičeskoetravlenieépitaksialʹnyhstrukturnitridagalliâ AT boltovecns plazmohimičeskoetravlenieépitaksialʹnyhstrukturnitridagalliâ AT ivanovvn plazmohimičeskoetravlenieépitaksialʹnyhstrukturnitridagalliâ AT svešnikovûn plazmohimičeskoetravlenieépitaksialʹnyhstrukturnitridagalliâ |
| first_indexed |
2023-10-18T18:21:17Z |
| last_indexed |
2023-10-18T18:21:17Z |
| _version_ |
1796143985200201728 |