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  1. 1
    Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
    von Fedorovich, O.A., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P.
    Veröffentlicht 2009
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  2. 2
    Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей
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  3. 3
    About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
    von Fedorovich, O.A., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P.
    Veröffentlicht 2010
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  4. 4
    About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields
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