Харвестер відкритої науки НАН України

Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей...

von Fedorovich, O. A., Kruglenko, M. P., Polozov, B. P.
Veröffentlicht 2009

About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon

von Fedorovich, O.A., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P.
Veröffentlicht 2010

Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift

von Fedorovich, O.A., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P.
Veröffentlicht in Вопросы атомной науки и техники (2009)

About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields

von Hladkovskiy, V.V., Fedorovich, O.A., Polozov, B.P., Kruglenko, M.P.
Veröffentlicht in Вопросы атомной науки и техники (2015)

Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters

von Fedorovich, O.A., Kruglenko, M.P., Lukomskij, D.V., Marinenko, A.A., Polozov, B.P.
Veröffentlicht in Вопросы атомной науки и техники (2007)

Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation

von Pugatch, V.M., Perevertaylo, V.L., Fedorovich, O.A., Borisenko, A.G., Kostin, E.G., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P., Tarasenko, L.I.
Veröffentlicht in Вопросы атомной науки и техники (2007)