Suchergebnisse - Polozov, B.P.

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    The qualitative analysis of the composition of the RF discharge plasma by means of mass-spectrometry von Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Fedorovich, O.A.

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    About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon von Fedorovich, O.A., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P.

    Veröffentlicht 2010
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    Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift von Fedorovich, O.A., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P.

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    Особенности плазмохимического травления торцов крем­ние­вых плас­тин для фо­то­элек­три­чес­ких пре­об­ра­зо­ва­те­лей... von Fedorovich, O. A., Kruglenko, M. P., Polozov, B. P.

    Veröffentlicht 2009
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    The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon von Fedorovich, О.А., Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Kruglenko, М.P.

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    About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields von Hladkovskiy, V.V., Fedorovich, O.A., Polozov, B.P., Kruglenko, M.P.

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    Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters von Fedorovich, O.A., Kruglenko, M.P., Lukomskij, D.V., Marinenko, A.A., Polozov, B.P.

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    Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок... von Hladkovskiy, V. V., Kostin, E. G., Polozov, B. P., Fedorovich, O. A., Petriakov, V. A.

    Veröffentlicht 2014
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    Влияние плазмохимического травления на структуру поверхности кремниевых пластин фотоэлектрических преобразователей... von Polozov, B. P., Fedorovich, O. A., Golotyuk, V. N., Marinenko, A. A., Lukomsky, D. V.

    Veröffentlicht 2006
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    Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления von Boltovets, M. S., Borisenko, A. G., Ivanov, V. N., Fedorovich, О. А., Krivutsa, V. A., Polozov, B. P.

    Veröffentlicht 2009
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  11. 11
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    Модуляционная поляриметрия полного внутреннего отражения, нарушенного алмазоподобными пленками von Maximenko, L. S., Mishchuk, O. N., Matyash, I. E., Serdega, B. K., Kostin, E. G., Polozov, B. P., Fedorovich, O. A., Savinkov, G. K.

    Veröffentlicht 2013
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    Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation von Pugatch, V.M., Perevertaylo, V.L., Fedorovich, O.A., Borisenko, A.G., Kostin, E.G., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P., Tarasenko, L.I.

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