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The qualitative analysis of the composition of the RF discharge plasma by means of mass-spectrometry
von
Hladkovskiy, V.V.
,
Polozov, B.P.
,
Fedorovich, O.A.
Veröffentlicht 2016
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2
Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
von
Fedorovich, O.A.
,
Kruglenko, M.P.
,
Polozov, B.P.
Veröffentlicht 2009
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3
About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
von
Fedorovich, O.A.
,
Kruglenko, M.P.
,
Polozov, B.P.
Veröffentlicht 2010
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4
Особенности плазмохимического травления торцов кремниевых пластин для фотоэлектрических преобразователей...
von
Fedorovich, O. A.
,
Kruglenko, M. P.
,
Polozov, B. P.
Veröffentlicht 2009
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Artikel
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5
The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon
von
Fedorovich, О.А.
,
Hladkovskiy, V.V.
,
Polozov, B.P.
,
Kruglenko, М.P.
Veröffentlicht 2015
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6
About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields
von
Hladkovskiy, V.V.
,
Fedorovich, O.A.
,
Polozov, B.P.
,
Kruglenko, M.P.
Veröffentlicht 2015
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7
Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок...
von
Hladkovskiy, V. V.
,
Kostin, E. G.
,
Polozov, B. P.
,
Fedorovich, O. A.
,
Petriakov, V. A.
Veröffentlicht 2014
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8
Формирование мезаструктур 4НSiC p–i–n-диодов методом ионно-плазменного травления
von
Boltovets, M. S.
,
Borisenko, A. G.
,
Ivanov, V. N.
,
Fedorovich, О. А.
,
Krivutsa, V. A.
,
Polozov, B. P.
Veröffentlicht 2009
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Artikel
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9
Модуляционная поляриметрия полного внутреннего отражения, нарушенного алмазоподобными пленками
von
Maximenko, L. S.
,
Mishchuk, O. N.
,
Matyash, I. E.
,
Serdega, B. K.
,
Kostin, E. G.
,
Polozov, B. P.
,
Fedorovich, O. A.
,
Savinkov, G. K.
Veröffentlicht 2013
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