Evolution of structural and electrophysical parameters of Ni/SiC contacts at rapid thermal annealing

• Видавець: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
• Дата: 2002
• Автори: Litvinov, V.L., Demakov, K.D., Agueev, O.A., Svetlichny, A.M., Konakova, R.V., Lytvyn, P.M., Lytvyn, O.S., Milenin, V.V.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2002
• Назва видання: Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/121364
• Цитувати: Evolution of structural and electrophysical parameters of Ni/SiC contacts at rapid thermal annealing / V.L. Litvinov, K.D. Demakov, O.A. Agueev, A.M. Svetlichny, R.V. Konakova, P.M. Lytvyn, O.S. Lytvyn, V.V. Milenin // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2002. — Т. 5, № 4. — С. 457-464. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Using X-ray phase analysis, Auger electron spectroscopy and atomic force microscopy, we investigated structural-phase transformations in the Ni/n-21R-SiC system induced by rapid thermal annealing in a vacuum (pressure of 10-² Pa) in the 450-1100 °С temperature range. It was found that modification o...