Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge
In this work, silicon is obtained by plasma-chemical reduction of silicon tetrachloride in an argon-hydrogen low- temperature nonequilibrium plasma. It is shown that in the investigated range of process parameters, the energy cost of producing one kilogram of silicon is in the range of 150…190 kW/h...
Збережено в:
Дата: | 2019 |
---|---|
Автори: | , , , , , , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194836 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge / A.N. Deryzemlia, A.I. Yevsiukov, V.I. Radchenko, D.A. Khizhnyak, P.G. Kryshtal, A.Yu. Zhuravlov, A.V. Shijan, S.V. Strigunovskiy, Yu.A. Pelypets, B.M. Shirokov // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 222-224. — Бібліогр.: 3 назв. — англ. |