2025-02-23T00:57:21-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-194836%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T00:57:21-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-194836%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T00:57:21-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-23T00:57:21-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response
Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge
In this work, silicon is obtained by plasma-chemical reduction of silicon tetrachloride in an argon-hydrogen low- temperature nonequilibrium plasma. It is shown that in the investigated range of process parameters, the energy cost of producing one kilogram of silicon is in the range of 150…190 kW/h...
Saved in:
Main Authors: | , , , , , , , , , |
---|---|
Format: | Article |
Language: | English |
Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
Series: | Вопросы атомной науки и техники |
Subjects: | |
Online Access: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194836 |
Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
id |
irk-123456789-194836 |
---|---|
record_format |
dspace |
spelling |
irk-123456789-1948362023-11-30T16:55:26Z Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge Deryzemlia, A.N. Yevsiukov, A.I. Radchenko, V.I. Khizhnyak, D.A. Kryshtal, P.G. Zhuravlov, A.Yu. Shijan, A.V. Strigunovskiy, S.V. Pelypets, Yu.A. Shirokov, B.M. Low temperature plasma and plasma technologies In this work, silicon is obtained by plasma-chemical reduction of silicon tetrachloride in an argon-hydrogen low- temperature nonequilibrium plasma. It is shown that in the investigated range of process parameters, the energy cost of producing one kilogram of silicon is in the range of 150…190 kW/h with a silicon yield of ~ 85 %. This cost reduction in the plasma-chemical process is associated with the transfer of electricity directly into the gas-vapor mixture. In addition, carrying out the recovery process under nonequilibrium conditions leads to the formation of atomic hydrogen in the discharge. Отримано кремній шляхом плазмохімічного відновлення тетрахлориду кремнію в аргон-водневій низькотемпературній нерівноважній плазмі. Показано, що в дослідженому диапазоні параметрів процесу енергетичні витрати на отримання одного кілограма кремнію знаходиться в межах 150…190 кВт/ч при виході кремнію ~ 85 %. Таке зниження витрат у плазмохімічному процесі пов'язане з введенням електроенергії безпосередньо в парогазову суміш. Крім того, проведення процесу відновлення в нерівноважних умовах призводить до утворення в розряді атомарного водню. Получен кремний путем плазмохимического восстановления тетрахлорида кремния в аргон-водородной низкотемпературной неравновесной плазме. Показано, что в исследуемом диапазоне параметров процесса энергетические затраты на получение одного килограмма кремния находятся в пределах 150…190 кВт/ч при выходе кремния ~ 85 %. Такое снижение затрат в плазмохимическом процессе связано с введением электроэнергии непосредственно в парогазовую смесь. Кроме того, проведение процесса восстановления в неравновесных условиях приводит к образованию в разряде атомарного водорода. 2019 Article Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge / A.N. Deryzemlia, A.I. Yevsiukov, V.I. Radchenko, D.A. Khizhnyak, P.G. Kryshtal, A.Yu. Zhuravlov, A.V. Shijan, S.V. Strigunovskiy, Yu.A. Pelypets, B.M. Shirokov // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 222-224. — Бібліогр.: 3 назв. — англ. 1562-6016 PACS:50.,52.,68.Lf http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194836 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
collection |
DSpace DC |
language |
English |
topic |
Low temperature plasma and plasma technologies Low temperature plasma and plasma technologies |
spellingShingle |
Low temperature plasma and plasma technologies Low temperature plasma and plasma technologies Deryzemlia, A.N. Yevsiukov, A.I. Radchenko, V.I. Khizhnyak, D.A. Kryshtal, P.G. Zhuravlov, A.Yu. Shijan, A.V. Strigunovskiy, S.V. Pelypets, Yu.A. Shirokov, B.M. Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge Вопросы атомной науки и техники |
description |
In this work, silicon is obtained by plasma-chemical reduction of silicon tetrachloride in an argon-hydrogen low- temperature nonequilibrium plasma. It is shown that in the investigated range of process parameters, the energy cost of producing one kilogram of silicon is in the range of 150…190 kW/h with a silicon yield of ~ 85 %. This cost reduction in the plasma-chemical process is associated with the transfer of electricity directly into the gas-vapor mixture. In addition, carrying out the recovery process under nonequilibrium conditions leads to the formation of atomic hydrogen in the discharge. |
format |
Article |
author |
Deryzemlia, A.N. Yevsiukov, A.I. Radchenko, V.I. Khizhnyak, D.A. Kryshtal, P.G. Zhuravlov, A.Yu. Shijan, A.V. Strigunovskiy, S.V. Pelypets, Yu.A. Shirokov, B.M. |
author_facet |
Deryzemlia, A.N. Yevsiukov, A.I. Radchenko, V.I. Khizhnyak, D.A. Kryshtal, P.G. Zhuravlov, A.Yu. Shijan, A.V. Strigunovskiy, S.V. Pelypets, Yu.A. Shirokov, B.M. |
author_sort |
Deryzemlia, A.N. |
title |
Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge |
title_short |
Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge |
title_full |
Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge |
title_fullStr |
Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge |
title_full_unstemmed |
Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge |
title_sort |
hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction rf discharge |
publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
publishDate |
2019 |
topic_facet |
Low temperature plasma and plasma technologies |
url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194836 |
citation_txt |
Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge / A.N. Deryzemlia, A.I. Yevsiukov, V.I. Radchenko, D.A. Khizhnyak, P.G. Kryshtal, A.Yu. Zhuravlov, A.V. Shijan, S.V. Strigunovskiy, Yu.A. Pelypets, B.M. Shirokov // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 222-224. — Бібліогр.: 3 назв. — англ. |
series |
Вопросы атомной науки и техники |
work_keys_str_mv |
AT deryzemliaan hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge AT yevsiukovai hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge AT radchenkovi hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge AT khizhnyakda hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge AT kryshtalpg hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge AT zhuravlovayu hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge AT shijanav hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge AT strigunovskiysv hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge AT pelypetsyua hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge AT shirokovbm hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge |
first_indexed |
2024-03-31T09:13:10Z |
last_indexed |
2024-03-31T09:13:10Z |
_version_ |
1796157990899810304 |