2025-02-23T00:57:21-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-194836%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T00:57:21-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-194836%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T00:57:21-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-23T00:57:21-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response

Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge

In this work, silicon is obtained by plasma-chemical reduction of silicon tetrachloride in an argon-hydrogen low- temperature nonequilibrium plasma. It is shown that in the investigated range of process parameters, the energy cost of producing one kilogram of silicon is in the range of 150…190 kW/h...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: Deryzemlia, A.N., Yevsiukov, A.I., Radchenko, V.I., Khizhnyak, D.A., Kryshtal, P.G., Zhuravlov, A.Yu., Shijan, A.V., Strigunovskiy, S.V., Pelypets, Yu.A., Shirokov, B.M.
Format: Article
Language:English
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2019
Series:Вопросы атомной науки и техники
Subjects:
Online Access:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194836
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
id irk-123456789-194836
record_format dspace
spelling irk-123456789-1948362023-11-30T16:55:26Z Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge Deryzemlia, A.N. Yevsiukov, A.I. Radchenko, V.I. Khizhnyak, D.A. Kryshtal, P.G. Zhuravlov, A.Yu. Shijan, A.V. Strigunovskiy, S.V. Pelypets, Yu.A. Shirokov, B.M. Low temperature plasma and plasma technologies In this work, silicon is obtained by plasma-chemical reduction of silicon tetrachloride in an argon-hydrogen low- temperature nonequilibrium plasma. It is shown that in the investigated range of process parameters, the energy cost of producing one kilogram of silicon is in the range of 150…190 kW/h with a silicon yield of ~ 85 %. This cost reduction in the plasma-chemical process is associated with the transfer of electricity directly into the gas-vapor mixture. In addition, carrying out the recovery process under nonequilibrium conditions leads to the formation of atomic hydrogen in the discharge. Отримано кремній шляхом плазмохімічного відновлення тетрахлориду кремнію в аргон-водневій низькотемпературній нерівноважній плазмі. Показано, що в дослідженому диапазоні параметрів процесу енергетичні витрати на отримання одного кілограма кремнію знаходиться в межах 150…190 кВт/ч при виході кремнію ~ 85 %. Таке зниження витрат у плазмохімічному процесі пов'язане з введенням електроенергії безпосередньо в парогазову суміш. Крім того, проведення процесу відновлення в нерівноважних умовах призводить до утворення в розряді атомарного водню. Получен кремний путем плазмохимического восстановления тетрахлорида кремния в аргон-водородной низкотемпературной неравновесной плазме. Показано, что в исследуемом диапазоне параметров процесса энергетические затраты на получение одного килограмма кремния находятся в пределах 150…190 кВт/ч при выходе кремния ~ 85 %. Такое снижение затрат в плазмохимическом процессе связано с введением электроэнергии непосредственно в парогазовую смесь. Кроме того, проведение процесса восстановления в неравновесных условиях приводит к образованию в разряде атомарного водорода. 2019 Article Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge / A.N. Deryzemlia, A.I. Yevsiukov, V.I. Radchenko, D.A. Khizhnyak, P.G. Kryshtal, A.Yu. Zhuravlov, A.V. Shijan, S.V. Strigunovskiy, Yu.A. Pelypets, B.M. Shirokov // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 222-224. — Бібліогр.: 3 назв. — англ. 1562-6016 PACS:50.,52.,68.Lf http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194836 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
spellingShingle Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
Deryzemlia, A.N.
Yevsiukov, A.I.
Radchenko, V.I.
Khizhnyak, D.A.
Kryshtal, P.G.
Zhuravlov, A.Yu.
Shijan, A.V.
Strigunovskiy, S.V.
Pelypets, Yu.A.
Shirokov, B.M.
Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge
Вопросы атомной науки и техники
description In this work, silicon is obtained by plasma-chemical reduction of silicon tetrachloride in an argon-hydrogen low- temperature nonequilibrium plasma. It is shown that in the investigated range of process parameters, the energy cost of producing one kilogram of silicon is in the range of 150…190 kW/h with a silicon yield of ~ 85 %. This cost reduction in the plasma-chemical process is associated with the transfer of electricity directly into the gas-vapor mixture. In addition, carrying out the recovery process under nonequilibrium conditions leads to the formation of atomic hydrogen in the discharge.
format Article
author Deryzemlia, A.N.
Yevsiukov, A.I.
Radchenko, V.I.
Khizhnyak, D.A.
Kryshtal, P.G.
Zhuravlov, A.Yu.
Shijan, A.V.
Strigunovskiy, S.V.
Pelypets, Yu.A.
Shirokov, B.M.
author_facet Deryzemlia, A.N.
Yevsiukov, A.I.
Radchenko, V.I.
Khizhnyak, D.A.
Kryshtal, P.G.
Zhuravlov, A.Yu.
Shijan, A.V.
Strigunovskiy, S.V.
Pelypets, Yu.A.
Shirokov, B.M.
author_sort Deryzemlia, A.N.
title Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge
title_short Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge
title_full Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge
title_fullStr Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge
title_full_unstemmed Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge
title_sort hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction rf discharge
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2019
topic_facet Low temperature plasma and plasma technologies
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194836
citation_txt Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge / A.N. Deryzemlia, A.I. Yevsiukov, V.I. Radchenko, D.A. Khizhnyak, P.G. Kryshtal, A.Yu. Zhuravlov, A.V. Shijan, S.V. Strigunovskiy, Yu.A. Pelypets, B.M. Shirokov // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 222-224. — Бібліогр.: 3 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT deryzemliaan hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge
AT yevsiukovai hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge
AT radchenkovi hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge
AT khizhnyakda hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge
AT kryshtalpg hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge
AT zhuravlovayu hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge
AT shijanav hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge
AT strigunovskiysv hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge
AT pelypetsyua hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge
AT shirokovbm hydrogenreductionofsilicontetrachlorideinlowtemperaturenonequilibriumplasmaofinductionrfdischarge
first_indexed 2024-03-31T09:13:10Z
last_indexed 2024-03-31T09:13:10Z
_version_ 1796157990899810304