Pressure-induced structural transformations in Si:V and Si:V, Mn
Semiconductors doped with magnetically active atoms are expected to find application in spintronics. Si samples implanted with Mn⁺ (Si:Mn) or with V⁺ (Si:V) can order magnetically after processing at high temperature (HT) and also under enhanced hydrostatic pressure (HP). This work presents new resu...
Збережено в:
Дата: | 2008 |
---|---|
Автори: | Misiuk, A., Barcz, A., Chow, L., Bak-Misiuk, J., Romanowski, P., Shalimov, A., Wnuk, A., Surma, B., Vanfleet, R., Prujszczyk, M. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Донецький фізико-технічний інститут ім. О.О. Галкіна НАН України
2008
|
Назва видання: | Физика и техника высоких давлений |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70463 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Pressure-induced structural transformations in Si:V and Si:V, Mn / A. Misiuk, A. Barcz, L. Chow, J. Bak-Misiuk, P. Romanowski, A. Shalimov, A. Wnuk, B. Surma, R. Vanfleet, M. Prujszczyk // Физика и техника высоких давлений. — 2008. — Т. 18, № 4. — С. 105-111. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Ferromagnetic nanoclusters in Si:Mn and GaMnAs annealed at high temperature-pressure
за авторством: J. Bak-Misiuk, та інші
Опубліковано: (2009) -
Ferromagnetic nanoclusters in Si:Mn and GaMnAs annealed at high temperature–pressure
за авторством: Bak-Misiuk, J., та інші
Опубліковано: (2009) -
Defekty v Si:N, obrabotannom pry vysokykh temperaturakh y davlenyiakh, proiavliaiushchyesia v rezultate travlenyia v deiteryevoi plazme
за авторством: A. Misiuk, та інші
Опубліковано: (2010) -
Defects in high temperature and high pressure processed Si:N revealed by deuterium plasma treatment
за авторством: Misiuk, A., та інші
Опубліковано: (2010) -
Pressure-induced transformations during annealing of silicon implanted with oxygen
за авторством: Misiuk, A., та інші
Опубліковано: (2006)