Результати пошуку - Fedorovich, O. A.
- Показ 1 - 20 результатів із 29
- На наступну сторінку
-
1
-
2
About unrealization of tungsten lines up to the ground state in the nonideal plasma of pulse discharges in water за авторством Fedorovich, O.A.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2009)Отримати повний текст
Стаття -
3
-
4
On features of the radiation from pulsed discharges initiated by thick wires in water за авторством Fedorovich, O.A., Voitenko, L.M.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2015)Отримати повний текст
Стаття -
5
The empirical formula of dependence of factor of disintegration of nonideal plasma from electrons concentration за авторством Fedorovich, O.A., Voitenko, L.M.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2011)Отримати повний текст
Стаття -
6
-
7
Час життя електронiв у щiльнiй плазмi за авторством Fedorovich, O. A., Voitenko, L. M.
Опубліковано 2018
Отримати повний текст
Стаття -
8
-
9
The qualitative analysis of the composition of the RF discharge plasma by means of mass-spectrometry за авторством Hladkovskiy, V.V., Polozov, B.P., Fedorovich, O.A.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2016)Отримати повний текст
Стаття -
10
-
11
Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift за авторством Fedorovich, O.A., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2009)Отримати повний текст
Стаття -
12
-
13
Non-self-sustained arc discharge in vapors of constructional materials of nuclear power engineering за авторством Borisenko, A.G., Kostin, E.G., Rokytskyi, O.А., Fedorovich, O.A.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2018)Отримати повний текст
Стаття -
14
Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium за авторством Borisenko, A.G., Kostin, E.G., Rokytskyi, O.A., Fedorovich, O.A.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2019)Отримати повний текст
Стаття -
15
Features of plasma chemical etching of lithium tantalate substrate (LiTaO₃) за авторством Fedorovich, O.A., Hladkovska, O.V., Hladkovskyi, V.V., Nedybaliuk, A.F.
Опубліковано в: Вопросы атомной науки и техники (2021)Отримати повний текст
Стаття -
16
-
17
-
18
Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок... за авторством Hladkovskiy, V. V., Kostin, E. G., Polozov, B. P., Fedorovich, O. A., Petriakov, V. A.
Опубліковано 2014Отримати повний текст
Стаття -
19
-
20
Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия за авторством Borisenko, A. G., Polozov, B. P., Fedorovich, O. A., Boltovets, M. S., Ivanov, V. N., Sveschnikov, Yu. N.
Опубліковано 2005Отримати повний текст
Стаття
Інструменти для пошуку:
Пов'язані теми
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Low temperature plasma and plasma technologies
plasma-chemical etching
plasma-chemical reactor
плазмохимический реактор
плазмохимическое травление
-
Applications and technologies
фотоэлектрические преобразователи
Plasma diagnostics
anisotropy
bias voltage
carbon diamond-like films
deep etching of silicon
discharge current
electric microfields
epitaxial layers
etching rate
gallium nitride
heating temperature
ion energy
iмпульснi розряди у водi
lifetime of charged particles
modular spectrometer
monosilicon
nonideal plasma
optical spectroscopy
photovoltaic cells
photovoltaic converters
plasma chemical reactor