Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation

The manufacturing of elements of micro-strip metal detectors (MSMD) for ionizing radiation applying plasma-chemistry technologies for etching of multilayer structures is described in details. Results obtained by using plasma-chemistry technologies for MSMD production as well as its advantages in com...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2007
Автори: Pugatch, V.M., Perevertaylo, V.L., Fedorovich, O.A., Borisenko, A.G., Kostin, E.G., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P., Tarasenko, L.I.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2007
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110503
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation / V.M. Pugatch, V.L. Perevertaylo, O.A. Fedorovich, A.G. Borisenko, E.G. Kostin, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov, L.I. Tarasenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 173-175. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-110503
record_format dspace
spelling irk-123456789-1105032017-01-05T03:04:08Z Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation Pugatch, V.M. Perevertaylo, V.L. Fedorovich, O.A. Borisenko, A.G. Kostin, E.G. Kruglenko, M.P. Polozov, B.P. Tarasenko, L.I. Low temperature plasma and plasma technologies The manufacturing of elements of micro-strip metal detectors (MSMD) for ionizing radiation applying plasma-chemistry technologies for etching of multilayer structures is described in details. Results obtained by using plasma-chemistry technologies for MSMD production as well as its advantages in comparison with a wet chemical etching, problems arising and possible ways of their elimination are presented. Приведено детальний опис технології виготовлення елементів мікростріпових металевих детекторів іонізуючого випромінювання (МСМД) з застосуванням плазмохімічного травлення багатошарових структур. Представлено результати застосування плазмохімічної технології виготовлення МСМД, її переваги перед хімічним травленням, а також виникаючі при цьому проблеми та можливі шляхи їх усунення. Приводится подробное описание изготовления элементов микростриповых металлических детекторов (МСМД) ионизирующих излучений с использованием плазмохимической технологии травления многослойных структур. Показаны результаты использования плазмохимии в технологии изготовления МСМД, её преимущества в сравнении с применением химического травления, а также возникающие при этом проблемы и возможные пути их устранения. 2007 Article Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation / V.M. Pugatch, V.L. Perevertaylo, O.A. Fedorovich, A.G. Borisenko, E.G. Kostin, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov, L.I. Tarasenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 173-175. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.Bn, 81.65.Cf, 85.40.-e, 85.40.Hp http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110503 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
spellingShingle Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
Pugatch, V.M.
Perevertaylo, V.L.
Fedorovich, O.A.
Borisenko, A.G.
Kostin, E.G.
Kruglenko, M.P.
Polozov, B.P.
Tarasenko, L.I.
Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
Вопросы атомной науки и техники
description The manufacturing of elements of micro-strip metal detectors (MSMD) for ionizing radiation applying plasma-chemistry technologies for etching of multilayer structures is described in details. Results obtained by using plasma-chemistry technologies for MSMD production as well as its advantages in comparison with a wet chemical etching, problems arising and possible ways of their elimination are presented.
format Article
author Pugatch, V.M.
Perevertaylo, V.L.
Fedorovich, O.A.
Borisenko, A.G.
Kostin, E.G.
Kruglenko, M.P.
Polozov, B.P.
Tarasenko, L.I.
author_facet Pugatch, V.M.
Perevertaylo, V.L.
Fedorovich, O.A.
Borisenko, A.G.
Kostin, E.G.
Kruglenko, M.P.
Polozov, B.P.
Tarasenko, L.I.
author_sort Pugatch, V.M.
title Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
title_short Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
title_full Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
title_fullStr Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
title_full_unstemmed Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
title_sort plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2007
topic_facet Low temperature plasma and plasma technologies
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110503
citation_txt Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation / V.M. Pugatch, V.L. Perevertaylo, O.A. Fedorovich, A.G. Borisenko, E.G. Kostin, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov, L.I. Tarasenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 173-175. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT pugatchvm plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT perevertaylovl plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT fedorovichoa plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT borisenkoag plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT kostineg plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT kruglenkomp plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT polozovbp plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
AT tarasenkoli plasmatechnologiesformanufacturingofmicrostripmetaldetectorsofionizingradiation
first_indexed 2024-03-30T09:13:11Z
last_indexed 2024-03-30T09:13:11Z
_version_ 1796149684415234048