Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation

Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation

The manufacturing of elements of micro-strip metal detectors (MSMD) for ionizing radiation applying plasma-chemistry technologies for etching of multilayer structures is described in details. Results obtained by using plasma-chemistry technologies for MSMD production as well as its advantages in com...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2007
Автори:	Pugatch, V.M., Perevertaylo, V.L., Fedorovich, O.A., Borisenko, A.G., Kostin, E.G., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P., Tarasenko, L.I.
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2007
Назва видання:	Вопросы атомной науки и техники
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/110503
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation / V.M. Pugatch, V.L. Perevertaylo, O.A. Fedorovich, A.G. Borisenko, E.G. Kostin, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov, L.I. Tarasenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 173-175. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2007)

Features of the low energy protons interaction with molibden surface
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Interaction of low-energy protons with aluminum surface
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Corona discharge influence on micro-organisms
за авторством: Scholtz, V.
Опубліковано: (2005)

Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)

Features of plasma formation for SNF magnetoplasma reprocessing at ionization stage
за авторством: Katrechko, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)

Investigation of parameters of the working substance - low temperature plasma in the ionization resonator chamber of the RF reactive engine
за авторством: Vdovin, V.S., та інші
Опубліковано: (2003)

Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)

The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition
за авторством: Demchishin, A.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Dynamics of the ion energy distribution and plasma parameters in flows of the non-self-sustained arc discharge in molybdenum vapors
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)

Plasma-chemical method of grain fungal contamination control
за авторством: Taran, G.V., та інші
Опубліковано: (2020)

Plasma chemistry of SOx in a pulsed electric discharge at atmosphere pressure
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)

Plasma of underwater electric discharges with metal vapors
за авторством: Boretskij, V.F., та інші
Опубліковано: (2019)

Method for measuring external and internal parameters of plasma with ungrounded gas discharge electrodes
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)

Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Emission spectra and current characteristics of negative corona discharge in an electrode system with liquid anode
за авторством: Bolotov, O.V., та інші
Опубліковано: (2020)

Cavity with distributed dielectric coating for subterahertz second-harmonic gyrotron
за авторством: Shcherbinin, V.I., та інші
Опубліковано: (2016)

Influence of the electric field on the burning rate of alkanes
за авторством: Orlovskaya, S.G., та інші
Опубліковано: (2019)

Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)

Novel project on total plasma based treatment of waste
за авторством: Van Oost, G., та інші
Опубліковано: (2005)

Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)

Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Two peaks of total current in streamer propagation
за авторством: Bolotov, O., та інші
Опубліковано: (2020)

Ion source of reactive gases with decreased neutral gas inleakage
за авторством: Lymar, A.G., та інші
Опубліковано: (2005)

Nanotube formation with controlled properties on catalytic surface by fullerene flow
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)

Final stage of cathode directed streamer propagation
за авторством: Bolotov, O., та інші
Опубліковано: (2016)

Secondary streamers in the primary streamer channel
за авторством: Bolotov, O., та інші
Опубліковано: (2019)

Hardware and software complex for measuring hard X-ray radiation on the torsatron “Uragan-2M”
за авторством: Gubarev, S.P., та інші
Опубліковано: (2021)

Application of coatings on inner surfaces of metallic and dielectric pipes with the use of HF -plasma source
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)

Investigation of jumping pulsed electrical discharge for plasma chemistry application
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2002)

Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)

Study of the effect of plasma chemical oxidation of ethylene impurity on the efficiency of banana storage
за авторством: Egorov, M.O., та інші
Опубліковано: (2022)

Axial coil accelerator of plasma ring in the atmospheric pressure air
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2019)

The synthesis of TiAlN composites by condensation of the different arc plasma flows
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)

Microprocessor OCM-003 device for ozone concentration measuring
за авторством: Gubarev, S.P., та інші
Опубліковано: (2016)

A computer simulation of the effect of dusty particles on the characteristic of RF discharges
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2007)

Low-temperature ozone sterilizer based on reactor with electrolityc cell
за авторством: Lozina, A.S., та інші
Опубліковано: (2019)

Plasma deposited diamond-like carbon films for large neural arrays
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)