Technology and experimental studies of contacts for microwave diodes based on interstitial phases

We consider some aspects of manufacturing technology for films of refractory metals nitrides and borides. These films are used for barrier and ohmic contacts, as well as contacts with antidiffusion layers in gallium arsenide and silicon epitaxial structures that are used to produce microwave diodes....

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2001
Автори: Boltovets, N.S., Ivanov, V.N., Konakova, R.V., Kurakin, A.M., Milenin, V.V., Soloviev, E.A., Verimeychenko, G.M.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2001
Назва видання:Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/119252
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Technology and experimental studies of contacts for microwave diodes based on interstitial phases / N.S. Boltovets, V.N. Ivanov, R.V. Konakova, A.M. Kurakin, V.V. Milenin, E.A. Soloviev, G.M. Verimeychenko // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2001. — Т. 4, № 2. — С. 93-105. — Бібліогр.: 23 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine