Effect of rapid thermal annealing on properties of contacts Au-Mo-TiBx-GaAs
The analytical, structural and electrophysical techniques have been applied to studies of the thermal degradation mechanism appearing in diode structures with the Schottky barrier Au-Mo-TiBxGaAs. It was shown that the rapid thermal annealing at T = 600 °C during 60 sec in hydrogen atmosphere results...
Збережено в:
Дата: | 1999 |
---|---|
Автори: | , , , , , , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
1999
|
Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/119864 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Effect of rapid thermal annealing on properties of contacts Au-Mo-TiBx-GaAs / E.F. Venger, A.A. Beliaev, N.S. Boltovets, I.B. Ermolovich, V.N. Ivanov, R.V. Konakova, V.V. Milenin, D.I.Voitsikhovski, T. Figielski, A. Makosa // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 1999. — Т. 2, № 3. — С. 57-61. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |