Contacts for silicon IMPATT and pick-off diodes

We studied experimentally: (i) the ways to fabricate metal-n⁺-Si ohmic contacts with Schottky barriers; (ii) how elemental, structural and phase composition of barrier layers in the contact system, as well as of the barrier layer-semiconductor interface, depend on the formation techniques and condit...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2000
Автори: Boltovets, N.S., Goncharuk, N.M., Krivutsa, V.A., Chaika, V.E., Konakova, R.V., Milenin, V.V., Soloviev, E.A., Tagaev, M.B., Voitsikhovskyi, D.I.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2000
Назва видання:Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/121159
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Contacts for silicon IMPATT and pick-off diodes / N.S. Boltovets, N.M. Goncharuk, V.A. Krivutsa, V.E. Chaika, R.V. Konakova, V.V. Milenin, E.A. Soloviev, M.B. Tagaev, D.I. Voitsikhovskyi // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2000. — Т. 3, № 3. — С. 352-358. — Бібліогр.: 13 назв. — англ.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine